苏州苏大维格光电科技股份有限公司的发展历程

2024-05-15

1. 苏州苏大维格光电科技股份有限公司的发展历程

2001年底,苏州苏大维格数码光学有限公司SVG DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月,正式投入运营。 成立初期,致力于“数码激光全息制版系统HoloMaker series”研发、激光全息制版技术服务、光学防伪解决方案、产业化应用。其中,HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的激光全息行业关键设备,成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此,02年初,获中华人民共和国科技进步二等奖,这是中国激光全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的著名专家,兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。2003-2004年,研制成功“定向光变色膜(OVCF)”原版制造技术,成功应用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年,研发成功大型纳米压印设备(平压平和卷对卷)。2005年,自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”,开创了“定位镭射印刷转移纸张”在烟草印刷包装上的应用先河,“定位激光转移纸张”获得中国专利授权。同年,公司获江苏省高新技术企业认定,通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批激光光刻领域的发明专利权。2006年,成立“江苏省数码激光成像与显示工程研究中心”(科技厅、财政厅批准),主要致力于超精密激光图形关键制造技术(光刻、直写、刻蚀)和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等制造技术的研发与应用。2006年,研制成功“宽幅智能激光SLM光刻设备工程样机并投入应用,首家实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻,多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。2007年,建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立镭射转移膜产能;研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻设备,这是国际上领先水平的亚微米激光直写系统。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与制造能力。2007年,研制成功“DMD并行激光光刻系统MicroLab”,具有超过10,000dpi的图形分辨率,主要应用于精密图形设计制造(导光结构、亚微米图形),研发成功手机导光薄膜(LGF),并成立苏州维旺科技有限公司,专注于手机及平板显示光学材料研发与制造。2008年8月,苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics,将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”(超精密图形激光光刻设备,纳米压印工艺设备、LIGA技术应用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜,在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面应用。2008年9月,苏大维格的“宽幅智能激光SLM光刻系统与应用”荣获江苏省科技进步一等奖(全省第一名)。2008年11月,苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业”。研发成功“导光薄膜”并应用于手机keypad。配合国家邮政印制局推出首套采用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等(Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic)。2009年3月,HoloMakerIII-b出口日本;研制成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料;大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国。2009年4月,“激光直写设备iGrapher200”投入应用,具有350nm以上图形直写能力,支持复杂微结构图形制造。2009年5月,研制成功“微透镜阵列光学薄膜”,建立了微透镜阵列的批量制造能力。这是中国第一个集微透镜阵列薄膜研发与制造能力的单位。研制成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜,拟用于高层(公安、金融等)防伪领域。2009年7月,苏大维格的“微镜Fresnel技术”应用于茅台“白金酒”防伪包装。2010年5月,研制成功双面UV微纳结构动态光学放大膜。2010年10月,研制成功超大幅面(1500mmx1300mm)激光图形化设备,填补了行业空白。

苏州苏大维格光电科技股份有限公司的发展历程

2. 苏州苏大维格科技集团股份有限公司电话是多少?

苏州苏大维格科技集团股份有限公司联系方式:公司电话0512-62868882,公司邮箱info@svgoptronics.com,该公司在爱企查共有6条联系方式,其中有电话号码2条。
公司介绍:苏州苏大维格科技集团股份有限公司是2001-10-25在江苏省苏州市虎丘区成立的责任有限公司,注册地址位于中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏虹东路北钟南街478号;苏州工业园区新昌路68号。
苏州苏大维格科技集团股份有限公司法定代表人陈林森,注册资本25,966.2286万(元),目前处于开业状态。
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3. 苏大维格的公司简介

苏大维格作为从事微纳技术领域研发与制造的高技术企业, 苏大维格致力于行   业共性技术与关键设备的开拓创新,高端微纳图形化直写设备、微纳材料研发,推进新型显示、照明与成像行业的产业应用。 10年来的发展,苏大维格成为A股深交所创业板上市企业(300331)   。  建有国家工程研究中心等研发创新平台。 (2.7万平米): 苏州工业园新昌街18号。公司总部、国家地方联合工程研究中心、新品中试平台设在第二厂区。建有工程化的宽幅微纳米加工与制造研发设施与规模化制造能力。主营:1、公共安全解决方案:证卡防伪材料(变色Color-shift)、动态光学放大膜AMOS)。2、微纳仪器设备:高速紫外激光图形化直写设备、纳米图形化光刻设备、柔性纳米压印设备、激光签注防伪系统;3、3D成像材料与器件等。4、大尺寸透明导电薄膜(触控传感器膜)产线、LED纳米图形化试验基地设在第二厂区。

苏大维格的公司简介